高純鉬靶是AMOLED面板生產中的關鍵原材料之一，該公司的新產品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內寬幅鉬靶(1800mm)空白，對全公司未來的市場拓展、業績成長產生重要影響。

濺射靶材的要求較傳統材料行業高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺寸、導磁率、超高密度與超細晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統把電子發射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬，合金，陶瓷化合物等。

磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，相比于蒸發鍍膜方式，其在很多方面有相當明顯的優勢。作為一項已經發展的較為成熟的技術，磁控濺射已經被應用于許多領域。

洛陽高新四豐電子材料有限公司是一家從事TFT-LCD/AMOLED、半導體IC制造用高純濺射靶材——高純鉬/銅/鈦等系列產品的研發、生產、銷售的高新技術企業。濺射靶材產品主要有TFT-LCD/AMOLED、半導體IC及光伏太陽能制造用高純鉬及鉬合金、銅、鈦、鎢等平面靶材和旋轉管靶等金屬靶材。此外，公司生產的鎢鉬深加工制品、鎢合金薄板和軍工用鎢合金、TZM板棒材、精加工鎢鉬零件等超高溫特種功能材料廣泛應用于單晶爐、鋼鐵、醫療、軍工等行業。歡迎大家咨詢選購。

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