旋轉靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的，里面裝有靜止不動的磁體，以慢速轉動。

濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。

在被濺射的靶ji(陰ji)與陽ji之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子， 靶上加有一定的負高壓，從靶ji發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰ji附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面， 以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。

濺射靶材用途主要在太陽能電池，建筑玻璃，汽車玻璃，半導體，平板電視等。

洛陽高新四豐電子材料有限公司是一家從事TFT-LCD/AMOLED、半導體IC制造用高純濺射靶材——高純鉬/銅/鈦等系列產品的研發、生產、銷售的高新技術企業。濺射靶材產品主要有TFT-LCD/AMOLED、半導體IC及光伏太陽能制造用高純鉬及鉬合金、銅、鈦、鎢等平面靶材和旋轉管靶等金屬靶材。此外，公司生產的鎢鉬深加工制品、鎢合金薄板和軍工用鎢合金、TZM板棒材、精加工鎢鉬零件等超高溫特種功能材料廣泛應用于單晶爐、鋼鐵、醫療、軍工等行業。歡迎大家咨詢選購。

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